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20米以上。此外，雖然英偉達GB200每根NVLink銅纜長度在可接受範圍內，但完全銅纜化仍然需要很長時間的技術積累和市場驗證。
儘管如此，分析人士認為，銅纜連線技術取代光模組的趨勢已經開始顯現。雖然光模組在資料中心領域依然佔據主導地位，但銅纜連線技術的優勢正逐漸得到認可。英偉達等公司的技術突破和市場佈局，將進一步推動銅纜連線技術在資料中心領域的應用和發展。
回顧英偉達GTC大會上的發言，黃仁勳對AI模型和計算效能的未來充滿期待。他表示，新一代Blackwell GPU的推出將極大地提升AI模型的訓練效率，為人工智慧的發展注入新的動力。而銅纜連線技術的應用，則將進一步最佳化資料中心的效能和成本結構，為整個科技行業帶來深遠的影響。
綜上所述，英偉達Blackwell架構及GB200晶片的釋出，無疑為資料中心領域帶來了革新的力量。銅纜連線技術的創新應用，不僅將改變資料中心的架構和效能，也將推動整個科技行業朝著更加高效、節能的方向發展。我們有理由相信，在不遠的將來，銅纜連線將成為資料中心領域的主流技術，為我們的生活和工作帶來更多便利和驚喜。
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