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訓練，你們這是在坑人。”包正義憤憤不平的說。
“這是徐正平校長妥協的條件，畢竟你提出的條件太苛刻了，不用上課，不用考試……對了，校長同意給蘇哲學習和科研方面的自由，但每年需要相應的成果，或者透過校學術委員會的現場考核。”牛光輝補充道。
包正義點點頭，說道：“這個比較合理，我想這個蘇哲會接受的。”
絕對的自由也不是好事，適當的考核還是有必要的。
兩人聊完蘇哲的事，聊起國內euv光刻機及五奈米以下晶片製程工藝的相關話題。
範曉明一邊開車，一邊聽著，心裡很不是滋味。
目前國內，能夠自主可控的是製造28奈米及28奈米以上製程工藝的晶片。
14奈米制程工藝的晶片國內能生產，但相關裝置高度依賴進口。
至於14奈米一下，國內目前無法制造。
現在，世界上最先進的晶片製程工藝是3奈米。
14奈米、7奈米、5奈米，再到3奈米，比起國內，整整先進了四代。
而他們這些人，以及相關的高校、機構直接跳過了前面的三代，直接研究3奈米晶片製程工藝。
相關的裝置如刻蝕機、薄膜沉寂裝置等等都已解決，就剩下最為核心的光刻機了。
而光刻機中的三大難題，euv光源、雙工件臺和光學鏡頭，其中雙工件臺的難題已經解決。
euv光源的問題，清大研製的同步輻射光源雖說極其耗能，但能用。
最後就是光學鏡頭了。
就他知道的專業研究光學鏡頭的團隊就超過了五個，再加上一些不知名的，參入euv光學鏡頭研究的團隊很多。
相對來說，上嶺大學光學鏡頭研究中心走在了最前列，一旦突破離子束拋光技術，euv光刻機光學鏡頭的難題將得到解決。
那時euv光刻機的製造不再是難題，這也意味著他們實現了彎道追趕，掌握自主可控的3奈米晶片製程工藝。
他覺得，突破離子束拋光技術的時間快了，那怕蘇哲那沒有進展，靠他們自己，再來兩輪差不多就成功了。
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