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第245章 用多重曝光技術突破16nm製程 (第2/3頁)

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麥之前,炎黃公司仍然要不惜一切資金、全力以赴地強化自身針對多重曝光技術展開深入研究與探索,

竭盡全力爭取能夠將其運用得得心應手、遊刃有餘。

因為唯有透過持之以恆的不懈努力來持續提升技術水準,才能確保泰山處理器供應鏈安全。

林鵬將目光從生產線上移開,轉而投向站在身旁的範宏毅:“範總,目前我們這條生產線的良品率能夠達到多少?”

“唉……現在也只是勉強能夠達到百分之三十而已。”

範宏毅聽到問話後,眉頭微微皺起,先是輕嘆一口氣,然後才帶著些許不滿回答道。

很顯然,對於這樣的良品率資料,範宏毅內心當然是不能滿足。

在他心中,如此低的良品率意味著生產成本會大幅增加,而這無疑是一個亟待解決的嚴重問題。

因此,他對當前百分之三十的良品率實在難以感到高興。

林鵬聞言卻是微微一笑,安慰道:“其實吧,我覺得百分之三十的良品率已經相當不錯了!這才剛剛開始投入初期生產,以後有的是時間去逐步提升良品率。”

在他看來,以現階段的技術,考慮到這又是首次採用32nm的光刻機進行多重曝光生產,能夠取得百分之三十的良品率已然算是一個頗為良好的開端了。

畢竟多重曝光技術相較於傳統的一次曝光而言,在良品率方面本就存在一定差距。

而且林鵬也心知肚明,即便是最成熟的多重曝光技術,其良品率的上限通常也就是百分之八十左右罷了,幾乎不可能像一次曝光那樣輕鬆實現百分之九十以上的超高良品率。

所以在林鵬看來,此時能有百分之三十的成績,著實不應有過高的苛求。

“如今使用 32nm的光刻機,並藉助多重曝光技術所製造出來的這款產品,其製程能達到多少nm?”

林鵬目光炯炯地盯著範宏毅,提出了這個至關重要的疑問。

提起製程問題,範宏毅臉上陰雲盡散,他嘴角微揚,流露出一抹得意的笑容:“目前咱們所生產的這顆處理器,它的設計工藝是 16nm製程!”

他的聲音中透露出難以掩飾的自豪之情。

雖然,臺島的集體電路公司在去年就開始大規模應用了22nm的製程工藝。

但是,當製程推進至 22nm時,整個行業彷彿遇到了一道難以逾越的瓶頸,在短時間內,想要讓光刻機取得全新的突破性進展簡直難如

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