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第245章 用多重曝光技術突破16nm製程 (第3/3頁)

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登天。

不過,正所謂山窮水復疑無路,柳暗花明又一村。

炎黃公司憑藉著多重曝光技術這一強大助力,利用稍微落後的光刻機,成功地實現了對臺島集體電路公司的短暫超越。

炎黃公司團隊率先把製程突破到了16nm製程。

儘管從某種程度上來說,這樣的成果或許帶有一些取巧的成分,但在範宏毅的眼中,無論採取何種方式和手段,只要能夠在競爭激烈的市場中脫穎而出、拔得頭籌,那便是真真切切的實力展現。

林鵬聞言,眼中閃過一絲驚喜之色:

“16nm製程嗎?”

“這可是個了不起的成就!雖然多重曝光技術的良品率還有待提升,但這無疑給了我們極大的信心。”

雖然早也有心理準備,但是範宏毅親口確認已經破破到了16nm製程,這還是讓林鵬興奮不已。

範宏毅微微點頭:“沒錯,這也證明了我們的方向是正確的。”

“接下來只要持續最佳化多重曝光技術,提升良品率,我們就能在半導體領域佔據更有利的地位。”

說道這裡,範宏毅看向林鵬的目光充滿了欽佩之色。

在他看來,炎黃公司能夠突破16nm製程,其中功勞最大的還是林鵬,因為是林鵬率先提出了多重曝光技術,並給予了很多理論支援。

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